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              VENA-300

              VENA-300

              詳細介紹

               VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設備PECVD等設備當中,主要功能是實現全自動匹配,解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準確,節省人力和時間等特點??蛇x的射頻系統檢測模塊可實時檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發現并顯著降低制程變化性。

              優勢

              ●性能安全可靠,長時間工作穩定
              ●實時反射功率測量與控制
              ●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
              ●傳輸效率高,運行噪音小
              ●屏蔽效果好
              ●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發生器配合使用

              特點

              ●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
              ●優化的匹配算法加速匹配時間
              ●最大限度地減少駐波比與反射功率
              ●嚴格的可靠性測試

              使用參數:

              匹配功率范圍

              0-300W

              工作頻率:

              13.56MHZ

              正常工作反射功率

              <3W

              匹配時間

              <3S

              傳輸效率

              >90%

              匹配器電源

              AC220V/50-60HZ

              輸入連接器

              N型

              輸出連接器

              UHF

              控制模式

              手動/自動

              可設預置點數

              7

              匹配阻抗范圍

              實部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據負載調節阻抗)

              匹配器尺寸

              340X230X130MM

              整機重量

              5.5KG

              冷卻方式

              強制風冷

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